[发明专利]尖锥阵列面黑体的法向发射率的确定方法和装置在审
| 申请号： | 201410458190.1 | 申请日： | 2014-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN104237133A | 公开（公告）日： | 2014-12-24 |
| 发明（设计）人： | 张广;陈大鹏;张小龙;董雁冰 | 申请（专利权）人： | 北京环境特性研究所 |
| 主分类号： | G01N21/17 | 分类号： | G01N21/17 |
| 代理公司： | 北京君恒知识产权代理事务所(普通合伙) 11466 | 代理人： | 林月俊;黄启行 |
| 地址： | 100854*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种尖锥阵列面黑体的法向发射率的确定方法和装置，所述方法包括：确定出面黑体的尖锥阵列中的四面尖锥的锥角角度、以及四面尖锥的表面的发射率；根据确定出的锥角角度，计算沿面黑体的法向入射到尖锥阵列内的光线在尖锥阵列内的反射次数；根据确定出的发射率以及计算出的反射次数计算尖锥阵列对光线的入射能量的吸收率，将计算出的吸收率作为面黑体的法向发射率的估算值。从而，本发明基于四面尖锥的锥角角度和四面尖锥的表面的发射率，估算出尖锥阵列面黑体的法向发射率；本发明的方法用于尖锥阵列面黑体设计优化时可缩短设计优化周期，并降低尖锥阵列面黑体设计和开发的人力、物力成本。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 黑体 发射 确定 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种尖锥阵列面黑体的法向发射率的确定方法，其特征在于，包括：确定出面黑体的尖锥阵列中的四面尖锥的锥角角度、以及所述四面尖锥的表面的发射率；根据确定出的锥角角度，计算沿所述面黑体的法向入射到所述尖锥阵列内的光线在所述尖锥阵列内的反射次数；根据确定出的发射率以及计算出的反射次数计算所述尖锥阵列对所述光线的入射能量的吸收率，将计算出的吸收率作为所述面黑体的法向发射率的估算值。
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