[发明专利]一种溶液辅助软压印方法在审
| 申请号： | 201410459137.3 | 申请日： | 2014-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN104238264A | 公开（公告）日： | 2014-12-24 |
| 发明（设计）人： | 谢惠民;戴相录;吴丹 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 张大威 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种溶液辅助软压印方法，包括以下步骤：制作表面具有微结构的第一材料的软模板；将抗蚀剂和有机溶剂配成溶液，其中，抗蚀剂不能被第一材料吸收，并且有机溶剂能被第一材料吸收；提供基片，并将溶液滴加到基片上；将软模板置于基片和溶液液滴之上，以使软模板和基片通过溶液液滴充分接触；待有机溶剂全部被第一材料的软模板吸收并且抗蚀剂固化成为抗蚀剂层后，脱除掉软模板，得到载有抗蚀剂层的基片，其中，抗蚀剂层表面具有与软模板相反的微结构；以抗蚀剂结构层为掩膜层，对基片进行刻蚀或沉积加工。本发明实施例的溶液辅助软压印方法具有无残胶、加工面积大、简单易行等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溶液 辅助 压印 方法 | ||
【主权项】：
一种溶液辅助软压印方法，其特征在于，包括以下步骤：制作表面具有微结构的第一材料的软模板；将抗蚀剂和有机溶剂配成溶液，其中，所述抗蚀剂不能被所述第一材料吸收，并且所述有机溶剂能被所述第一材料吸收；提供基片，并将所述溶液滴加到所述基片上；将所述软模板置于所述基片和溶液液滴之上，以使所述软模板和所述基片通过所述溶液液滴充分接触；待所述有机溶剂全部被所述第一材料的软模板吸收并且所述抗蚀剂固化成为抗蚀剂层后，脱除掉所述软模板，得到载有抗蚀剂层的基片，其中，所述抗蚀剂层表面具有与所述软模板相反的微结构；以所述抗蚀剂结构层为掩膜层，对所述基片进行刻蚀或沉积加工。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学，未经清华大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410459137.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种三轴仿真转台
- 下一篇：一种基于视线落点的相机对焦系统及方法
