[发明专利]一种脱细胞真皮基质及其制备方法和用途有效

专利信息
申请号: 201410460693.2 申请日: 2014-09-11
公开(公告)号: CN104288837A 公开(公告)日: 2015-01-21
发明(设计)人: 杨淑珍 申请(专利权)人: 杨淑珍
主分类号: A61L27/36 分类号: A61L27/36
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 郭广迅
地址: 100074 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种可以作为角膜修补材料的脱细胞真皮基质。所述脱细胞真皮基质包括乳头层,厚度为100~800μm;本发明还提供了一种脱细胞真皮基质的制备方法以及所述脱细胞真皮基质的使用前的处理方法。在本发明的在另一方面,提供了本发明所述的脱细胞真皮基质在制备角膜修补材料中的用途。本发明的脱细胞真皮基质具有透明角膜针对性,发明人比较了超薄脱细胞乳头层皮肤补片、人全层皮肤、全层角膜的切片,结果说明超薄脱细胞乳头层皮肤补片内细胞去除完全,保留的细胞外基质排列整齐,接近角膜纤维的排列。因此,本发明的脱细胞真皮基质可以作为角膜修补材料用于治疗和/或改善角膜变薄等眼部疾病。
搜索关键词: 一种 细胞 真皮 基质 及其 制备 方法 用途
【主权项】:
一种脱细胞真皮基质,其中,所述脱细胞真皮基质由真皮乳头层制备获得,并且所述脱细胞真皮基质的厚度为100~800μm;优选地,所述脱细胞真皮基质的规格为0.5cm×0.5cm~2cm×2cm,优选为1cm×1cm;优选地,所述脱细胞真皮基质来自人皮肤,更优选地,为尸体皮肤。
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