[发明专利]光刻机套片对准的方法有效
| 申请号： | 201410462658.4 | 申请日： | 2014-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN104166319A | 公开（公告）日： | 2014-11-26 |
| 发明（设计）人： | 王诚;刘庆锋 | 申请（专利权）人： | 上海先进半导体制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 徐洁晶 |
| 地址： | 200233 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻机套片对准的方法，该方法系制作并利用对准标准片来对该光刻机的对准系统进行校正；该方法包括步骤：A.选择深紫外光光刻机作为制作该对准标准片的光刻设备；B.根据产品的对准位置、避开晶圆片上的产品区域以及避开化学机械研磨的研磨区域这三个因素，确定在该对准标准片上的对准标志的坐标位置；C.制作该对准标准片，并将该对准标准片以渐进方式融入到生产中去。本发明能够减少套准偏差，建立套准偏差的基准，提高了光刻机对准的性能，提升了产品套片的偏差精度与稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 机套 对准 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻机套片对准的方法，所述方法系制作并利用对准标准片(200)来对所述光刻机的对准系统进行校正；所述方法包括步骤：A.选择深紫外光光刻机作为制作所述对准标准片(200)的光刻设备；B.根据产品的对准位置、避开晶圆片上的产品区域以及避开化学机械研磨的研磨区域这三个因素，确定在所述对准标准片(200)上的对准标志(201)的坐标位置；以及C.制作所述对准标准片(200)，并将所述对准标准片(200)以渐进方式融入到生产中去。
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