[发明专利]定向磊晶的异质接面双极性晶体管结构有效

专利信息
申请号: 201410469535.3 申请日: 2014-09-16
公开(公告)号: CN104900688B 公开(公告)日: 2018-05-22
发明(设计)人: 金宇中;黄朝兴;曾敏男 申请(专利权)人: 全新光电科技股份有限公司
主分类号: H01L29/737 分类号: H01L29/737;H01L29/04
代理公司: 北京华夏博通专利事务所(普通合伙) 11264 代理人: 刘俊
地址: 中国台湾桃园县*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种定向磊晶的异质接面双极性晶体管结构,是直接或间接成长在(100)朝向(111)B面倾斜的砷化镓基板上,包含在基板上由下而上依序堆栈的次集极层、集极层、基极层、射极层,射极盖层及欧姆接触层,其中射极层为N型能隙大于基极层的III‑V族半导体。此外,还可进一步包含夹在集极层及基极层之间的穿隧集极层,是由磷化铟镓(InGaP)或砷磷化铟镓(InGaAsP)形成。本发明是在(100)朝向(111)B面倾斜的砷化镓基板上成长,倾斜的角度为0.6°~25°,皆能在一般制程范围内轻易达成,使铟与镓在<111>方向上达到很有序的排列,缩小基极‑射极接面与基极‑穿隧集极接面导电带的不连续,增进整体电气特性。
搜索关键词: 定向 异质接面双 极性 晶体管 结构
【主权项】:
1.一种定向磊晶的异质接面双极性晶体管结构,其特征在于,包括:一次集极层,是由N型III-V族半导体形成,并堆栈在一基板上,其中该基板为砷化镓,且是由(100)朝向(111)B面方向倾斜,而倾斜的角度为0.6°~25°;一集极层,是堆栈在该次集极层上,并由N型III-V族半导体形成;一基极层,是堆栈在该集极层上,并由P型III-V族半导体形成;一射极层,是堆栈在该基极层上,并由N型InGaP或InGaAsP形成;一射极盖层,是堆栈在该射极层上,并由N型III-V族半导体形成;以及一欧姆接触层,是堆栈在该射极盖层上,并由N型III-V族半导体形成,其中,通过该基板是由(100)朝向(111)B面方向倾斜,而倾斜的角度为0.6°~25°的方式,使该射极层的能隙缩小。
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