[发明专利]一种芯壳型纳米线三维NAND闪存器件及其制备方法有效
申请号: | 201410471320.5 | 申请日: | 2014-09-16 |
公开(公告)号: | CN104269406B | 公开(公告)日: | 2017-04-19 |
发明(设计)人: | 缪向水;邢钧;童浩 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01L27/11551 | 分类号: | H01L27/11551 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心42201 | 代理人: | 廖盈春 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种非易失性高密度三维半导体存储器件,该存储器件由芯壳型纳米线作为NAND串组成,所述NAND串垂直于衬底。利用芯壳型纳米线作为NAND串制作存储器件,不仅使器件的结构更加简单,也减少了原有器件制作过程中复杂的制造工艺步骤,简化了制备过程,对降低制造成本有积极作用。 | ||
搜索关键词: | 一种 芯壳型 纳米 三维 nand 闪存 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种制备芯壳型纳米线三维NAND闪存器件的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)在半导体衬底上沉积一层共源平面;接着,在所述共源平面上通过溅射镀膜沉积一层铝;然后,通过阳极氧化法在所述铝层上制备多孔氧化铝模板;并使所述多孔氧化铝模板内的通孔直接与共源平面连通;(2)在所述多孔氧化铝模板的通孔内沉积纳米线,然后在纳米线上方通过溅射镀膜沉积漏极电极;(3)除掉所述多孔氧化铝模板;接着沉积芯壳型纳米线;然后再沉积字线电极、位线;在此过程中,步骤(2)中所述沉积的纳米线为半导体沟道,步骤(3)中所述的沉积芯壳型纳米线是在所述纳米线表面依次形成沟道绝缘层、电荷存储层和栅极绝缘层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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