[发明专利]一种反应腔室

摘要

本发明提供了一种反应腔室，该反应腔室包括工艺腔、检测腔和传输装置，其中，工艺腔用于对基片进行薄膜沉积工艺；检测腔用于检测沉积在基片上的薄膜厚度；在工艺腔与检测腔之间具有使二者相连通、且供基片通过的传片口，传输装置用于通过传片口在工艺腔和检测腔之间传输基片。本发明提供的反应腔室，可以在完成工艺配方之后检测基片沉积的实际薄膜沉积厚度并调整工艺配方来使其沉积至目标厚度，从而可以提高良品率；而且不需要采用现有技术中周期性地基于测试片调整工艺配方的方式，因而不仅可以提高生产率，而且还可以不需要耗费测试片，从而可以提高经济效益。

主权项

一种反应腔室，其特征在于，包括工艺腔、检测腔和传输装置，其中，所述工艺腔用于对基片进行薄膜沉积工艺；所述检测腔用于检测沉积在基片上的薄膜厚度；在所述工艺腔与检测腔之间具有使二者相连通、且供基片通过的传片口，所述传输装置用于通过所述传片口在所述工艺腔和所述检测腔之间传输基片。