[发明专利]一种制造气体敏感薄膜材料的方法无效
| 申请号： | 201410476262.5 | 申请日： | 2014-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN104280520A | 公开（公告）日： | 2015-01-14 |
| 发明（设计）人： | 刘子骥;张安然;于云飞;谢佳林;郑兴;蒋亚东 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G01N33/00 | 分类号： | G01N33/00 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 谭新民 |
| 地址： | 610000 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例公开了一种制造气体敏感薄膜材料的方法，包括：用LB成膜法形成氧化石墨烯薄膜；将形成了氧化石墨烯薄膜进行热蒸，形成多孔氧化石墨烯网；用LB成膜法在多孔氧化石墨烯网上形成酞菁酮薄膜。这样，获得氧化石墨烯和酞菁酮薄膜的复合气体敏感薄膜。根据本发明实施例中的方法制得的气体敏感薄膜材料不仅灵敏度较高，而且响应恢复很快。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制造 气体 敏感 薄膜 材料 方法 | ||
【主权项】：
一种制造气体敏感薄膜材料的方法，其特征在于，包括：将氧化石墨烯分散于第一铺展剂中，获得氧化石墨烯分散液；用LB成膜法使用所述氧化石墨烯分散液在基片上形成氧化石墨烯薄膜；将形成了所述氧化石墨烯薄膜的所述基片置于盛有去离子水或者超纯水的容器进行热蒸，在所述基片上形成多孔氧化石墨烯网，并且所述多孔氧化石墨烯网中的氧化石墨烯被部分还原；将酞菁酮分散于第二铺展剂中，获得酞菁酮分散液；用LB成膜法使用所述酞菁酮分散液在所述基片的所述多孔氧化石墨烯网上形成酞菁酮薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学，未经电子科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410476262.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种治疗类风湿关节炎的中草药组合物
- 下一篇：具有增溶缓释作用的片剂组合物
