[发明专利]一种具有复合势垒层的氮化镓基异质结场效应管有效
申请号: | 201410476301.1 | 申请日: | 2014-09-17 |
公开(公告)号: | CN104201202B | 公开(公告)日: | 2017-01-25 |
发明(设计)人: | 杜江锋;潘沛霖;陈南庭;刘东;于奇 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L29/778 | 分类号: | H01L29/778;H01L29/06;H01L29/10 |
代理公司: | 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙)51227 | 代理人: | 李玉兴 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有复合势垒层的氮化镓基异质结场效应晶体管。本发明的器件中复合势垒层由高低不同极化强度铝铟镓氮材料组成,当低极化强度铝铟镓氮势垒层位于栅极漏端,使这部分势垒层下方沟道的二维电子气(2DEG)密度小于沟道漏端其他位置的2DEG密度,形成LDD结构,从而实现调制沟道的电场分布以提升耐压能力;当低极化强度铝铟镓氮势垒层位于栅极正下方区域,栅下氮化镓(GaN)沟道导带底呈阶梯式分布,由于势垒的下降使栅下沟道载流子的漂移速度增加,在2种不同元素组分铝铟镓氮势垒层之间产生电场的峰值,使沟道电势更多的分布在栅极漏端而不是整个栅极,以抑制漏至势垒下降(DIBL)效应。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 复合 势垒层 氮化 镓基异质结 场效应 | ||
【主权项】:
一种具有复合势垒层的氮化镓基异质结场效应管,包括衬底(101)、设置在衬底(101)上层的氮化镓缓冲层(102)、设置在氮化镓缓冲层(102)上层的氮化镓沟道层(103)、源极(105)、漏极(106)和栅极(107);其特征在于,在氮化镓沟道层(103)上层设置有复合势垒层,所述源极(105)和漏极(106)位于复合势垒层上表面的两端并与复合势垒层形成欧姆接触,所述栅极(107)位于复合势垒层上表面的中部并与复合势垒层形成肖特基接触;所述复合势垒层由高极化强度势垒层(201)和低极化强度势垒层(202)构成,所述低极化强度势垒层(202)的两端连接高极化强度势垒层(201)。
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