[发明专利]一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜有效
| 申请号： | 201410477962.6 | 申请日： | 2014-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN104199175A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 朱咸昌;胡松;赵立新 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B13/06 | 分类号： | G02B13/06;G02B13/22;G02B13/18;G02B13/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 杨学明;顾炜 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜，其作用是把投影光刻机掩模版上的图形经过成像复制后转移到硅片上。投影曝光物镜是光刻机的核心部件，决定了光刻机的主要性能。本发明所涉及的大视场投影曝光物镜由26片透镜组成，物镜分辨力1.5μm，放大倍率为-1.25倍，曝光视场132mm×132mm。本投影曝光物镜采用4面非球面校正系统场曲、畸变和波像差；同时，选用对i线(365nm)透过率较高的玻璃材料，提高系统光学透过率，满足大视场投影光刻机的高精度及高产率需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 投影 光刻 视场 曝光 物镜 | ||
【主权项】：
一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜，其特征在于：该投影曝光物镜采用双远心结构，即物镜物方和像方主光线与光轴平行；投影曝光物镜分为前后两部分：透镜组Ⅰ和透镜组Ⅱ，光阑位于透镜组Ⅰ和Ⅱ的共焦面；透镜组Ⅰ和透镜组Ⅱ分别由两组透镜组成，透镜组Ⅰ和透镜组Ⅱ从掩模面到硅片面沿光轴依次由正光焦度的透镜组(1)、负光焦度透镜组(2)、光阑、负光焦度透镜组(3)和正光焦度透镜组(4)组成。
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