[发明专利]低缺陷化学机械抛光组合物有效
| 申请号： | 201410478499.7 | 申请日： | 2014-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN104449396A | 公开（公告）日： | 2015-03-25 |
| 发明（设计）人： | 郭毅 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 江磊 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于抛光含氧化硅的基材的低缺陷化学机械抛光组合物，该组合物包含以下成分作为初始组分：水、胶体二氧化硅磨料、以及如通式I所示的添加剂。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 化学 机械抛光 组合 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光组合物，其包含以下成分作为初始组分:水，0.1‑40重量％的胶体二氧化硅磨料；0.001‑5重量％的如通式I所示的添加剂：![]()
其中，R1是C1‑8烷基；其中R2、R3、R4、R5、R6各自独立地选自氢、卤素、羟基和C1‑8烷基；其中所述化学机械抛光组合物包含<0.00000000001重量％的包合物；以及，其中所述化学机械抛光组合物包含<0.00000000001重量％的氧化剂。
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