[发明专利]防止光刻胶结晶的方法有效
申请号: | 201410486805.1 | 申请日: | 2014-09-22 |
公开(公告)号: | CN105446081B | 公开(公告)日: | 2019-11-08 |
发明(设计)人: | 覃柳莎 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 牛峥;王丽琴 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种防止光刻胶结晶的方法,在回吸光刻胶后,将光刻胶稀释溶剂吸入喷嘴中,可以将残留在喷嘴前端及内壁处的光刻胶溶解,避免在喷嘴生成光刻胶结晶,并尽可能减少喷嘴内壁处光刻胶结晶;进一步,在回吸光刻胶后,排出部分回吸时吸入的空气,可保证以空气隔离喷嘴内光刻胶与光刻胶稀释溶剂的同时,减少喷嘴内的空气,减少参与光刻胶结晶的空气,并增加光刻胶稀释溶剂覆盖的喷嘴内壁的范围,最大程度溶解喷嘴内壁残留光刻胶,在达到更好的防止光刻胶结晶的效果的同时,降低光刻胶空喷的损耗,进而节约工艺成本。 | ||
搜索关键词: | 防止 光刻 胶结 方法 | ||
【主权项】:
1.一种防止光刻胶结晶的方法,其特征在于,包括:通过喷嘴向晶圆喷洒光刻胶并在晶圆表面形成光刻胶涂层;对喷嘴中存留的光刻胶进行回吸,以在喷嘴中吸入空气;将喷嘴置于光刻胶稀释溶剂中,并吸取光刻胶稀释溶剂;其中,在对喷嘴中存留的光刻胶进行回吸之后,且吸取光刻胶稀释溶剂之前,还包括排出部分回吸时吸入的空气的步骤。
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