[发明专利]铜及钼含有膜的蚀刻液组合物有效
| 申请号： | 201410489479.X | 申请日： | 2014-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN104513983B | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 金世训;李宝妍;李恩庆;金涩琪;殷熙天;申孝燮 | 申请（专利权）人： | 易安爱富科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟 |
| 地址： | 韩国首尔市*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种蚀刻液组合物，在蚀刻含有铜及钼的膜时，即使铜膜的厚度较厚，也可加快铜膜蚀刻的速度，维持钼含有膜较高的蚀刻速度，防止配线段不良。所述蚀刻液组合物是含有作为氧化剂的过氧化氢和过硫酸盐的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，相对于所述过氧化氢100重量份，含有0.5～10重量份的所述过硫酸盐。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，相对于组合物的总重量，含有：15～30重量％的过氧化氢，0.05～3重量％的过硫酸盐，0.1～3重量％的蚀刻抑制剂，0.1～5重量％的螯合剂，0.01～2重量％的包含选自硫酸氢钾和硫酸氢钠中的一种以上化合物的蚀刻添加剂，0.01～2重量％的氟化物，以及使组合物总重量成为100重量％的水；相对于100重量份的所述过氧化氢，含有1.8重量份至6重量份的过硫酸盐。
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