[发明专利]控制限制环位置的直接驱动装置及其方法

摘要

本发明提供了一种在衬底处理期间控制等离子体处理系统处理腔的受限区域内压强大小的直接驱动装置。所述受限区域是由所提供的限制环围绕的腔容积空间。所述装置包括被配置用于通过马达组件改变压强的活塞组件，所述马达组件被配置用于垂直移动所述活塞组件并记录所述活塞组件的设定点位置值。所述装置进一步包括被配置用于驱动所述马达组件以移动所述活塞组件从而改变所述受限区域内所述压强大小的成套电路。所述成套电路还被配置用于将功率提供到所述马达组件。所述成套电路被进一步配置用于从所述马达组件接收所述设定点位置值。

主权项

一种在衬底处理期间控制等离子体处理腔的受限区域内压强大小的方法，其中所述受限区域是一组限制环之间的区域，所述方法包括：将多个活塞装置中的每个活塞装置设置到初始位置；将所述一组限制环移动到方案初始设定点位置值；在所述衬底处理期间采集有关所述压强大小的压强数据；将所述压强数据发送到控制模块用于分析；将所述压强数据与预定阈值范围比较；如果所述压强数据在所述预定阈值范围之外，就为所述每个活塞装置确定新的设定点位置；发送所述新的设定点位置作为成套指令；将所述每个活塞装置移动到所述新的设定点位置；在所述衬底处理之前校准所述每个活塞装置，其中所述校准包括关闭通往所述每个活塞装置的功率，将所述一组限制环设置到初始高度，校准所述每个活塞装置上的成对传感器，以及将所述每个活塞装置移动到所述初始位置。