[发明专利]一种水利水电工程地下洞室高薄岩墙开挖方法有效

专利信息
申请号: 201410490938.6 申请日: 2014-09-24
公开(公告)号: CN104264709A 公开(公告)日: 2015-01-07
发明(设计)人: 孙留阳;马增翼;侯孝军;李所;魏惊蛰;曾彪 申请(专利权)人: 中国水利水电第十四工程局有限公司
主分类号: E02D29/045 分类号: E02D29/045;E02D17/00
代理公司: 昆明正原专利商标代理有限公司 53100 代理人: 金耀生
地址: 650041 *** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开了一种应用于水利水电工程地下洞室高薄岩墙开挖方法。两侧开挖前,对先开挖侧设计结构线部位实施深孔预裂爆破,深孔预裂爆破深度为两个开挖梯段高度为9~12m,先开挖侧岩墙揭露后,立即实施岩墙浅层支护。与此同时,进行后开挖侧远离岩墙的岩体开挖,先揭露的岩墙支护完成后,后开挖侧岩体才能开挖至岩墙附近。后开挖侧岩墙预留4~6m保护层,自上而下分两小层采用光面爆破。后揭露的岩墙按照先浅层支护、后对穿支护的顺序实施。采用该方法实现了高薄岩墙两侧基本对穿开挖,有利于加快工程建设进度,节约工期,简化施工措施,有利于节约成本。
搜索关键词: 一种 水利水电工程 地下 洞室高薄岩墙 开挖 方法
【主权项】:
一种应用于水利水电地下洞室高薄岩墙开挖方法,其特征在于按以下步骤进行:首先对高薄岩墙先开挖侧沿设计结构线进行深孔预裂爆破,一次性预裂爆破深度为9~12m,实施深孔预裂爆破后,开挖先开挖侧岩体,先开挖侧岩墙揭露后,立即对揭露的岩墙实施浅层喷锚支护,与此同时,进行后开挖侧远离高薄岩墙的岩体开挖,后开挖侧靠近高薄岩墙部位预留4~6m厚度的保护层,保护层进行浅孔小药量光面爆破,对后开挖侧岩墙先实施浅层支护1,再实施对穿锚杆或锚索支护,然后继续下一循环的开挖。
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