[发明专利]一种MOCVD反应室保温隔热装置在审
| 申请号： | 201410492547.8 | 申请日： | 2014-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN104213103A | 公开（公告）日： | 2014-12-17 |
| 发明（设计）人： | 肖四哲;郭峰成 | 申请（专利权）人： | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/46 | 分类号： | C23C16/46 |
| 代理公司： | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人： | 胡朝阳;孙洁敏 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙岗区横岗*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种MOCVD反应室保温隔热装置，包括：圆形基座、设于圆形基座上方的载片盘、设于载片盘与圆形基座之间的电阻加热片、连接于电阻加热片边缘与圆形基座之间的电极杆、活动穿过圆形基座和电阻加热片连接于载片盘底面中间的电机转轴，电阻加热片下方设有至少两层隔热屏；载片盘下方还设有位于电阻加热片和隔热屏外圈的圆筒形反射屏，圆筒形反射屏的直径与载片盘直径配合。本发明的电阻加热片底部增设多层隔热屏，电阻加热片和隔热屏外圈增设一圆筒形反射屏，以减少向反应腔底部散失的热量，提高能量的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 mocvd 反应 保温 隔热 装置 | ||
【主权项】：
一种MOCVD反应室保温隔热装置，包括：圆形基座、设于圆形基座上方的载片盘、设于载片盘与圆形基座之间的电阻加热片、连接于电阻加热片边缘与圆形基座之间的电极杆、活动穿过圆形基座和电阻加热片连接于载片盘底面中间的电机转轴，其特征在于，所述电阻加热片下方设有至少两层隔热屏；载片盘下方还设有位于所述电阻加热片和隔热屏外圈的圆筒形反射屏，所述圆筒形反射屏的直径与载片盘直径配合。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
