[发明专利]蚀刻液组合物及利用该组合物的薄膜晶体管基板形成方法

摘要

本发明提供一种蚀刻液组合物及利用该组合物的薄膜晶体管基板形成方法。本发明实施例的蚀刻液组合物包含第一蚀刻液组合物和第二蚀刻液组合物。所述第一蚀刻液组合物包含过二硫酸盐化合物、唑类化合物、水溶性胺化合物、磷酸盐化合物、氯化物、有机酸、氟化物、磺酸化合物及无机酸。所述第二蚀刻液组合物包含二硫酸化合物、唑类化合物、水溶性胺化合物、磷酸盐化合物、氯化物及有机酸。

主权项

1.一种蚀刻液组合物，其特征在于，相对于蚀刻液组合物的总重量，包含0.1重量％～20重量％的过二硫酸盐化合物、0.01重量％～2重量％的唑类化合物、0.1重量％～10重量％的水溶性胺化合物、0.1重量％～5重量％的磷酸盐化合物、0.001重量％～1重量％的氯化物、0.1重量％～20重量％的有机酸、0.1重量％～2重量％的氟化物、0.1重量％～5重量％的磺酸化合物、以及0.1重量％～5重量％的无机酸以及使整个组合物的总重量成为100重量％的水，和其中所述水溶性胺化合物是氨基磺酸、环己基氨基磺酸、脂肪胺磺酸、牛磺酸、脂肪胺亚磺酸或氨基乙烷亚磺酸。