[发明专利]一种LED光子晶体结构的单元图形及其使用方法有效
申请号: | 201410498866.X | 申请日: | 2014-09-26 |
公开(公告)号: | CN105511218B | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | 张家锦;章磊;熊威 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种光子晶体工艺层的光刻拼接方法,其特征在于,包括:步骤一、定义一光子晶体结构图形特征,所述光子晶体结构图形特征为一距图形中心间距均为s,内圈为正六边形,外圈为正十二边形的图形结构,其中s大于两倍投影光刻机最小分辨率R;步骤二、根据所述光子晶体结构图形特征形成以光子晶体结构;步骤三、在光子晶体结构中提取六边形结构作为单元图形;步骤四、将含所述单元图形的掩模图像作为曝光场曝光视场区域。本发明还公开了一种包含光子晶体结构的单元图形的掩模版,一种LED光子晶体工艺层的制作方法以及一种包含光子晶体结构的单元图形的掩模版的制作方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 led 光子 晶体结构 单元 图形 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
1.一种包含光子晶体结构的单元图形的掩模版,其特征在于,所述光子晶体结构的单元图形包括光子晶体结构图形,所述光子晶体结构图形特征为内圈为正六边形,外圈为正十二边形的图形结构,所述内圈和所述外圈的边长均为s,其中s大于两倍投影光刻机最小分辨率R。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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