[发明专利]干涉滤波器、光学滤波器装置、光模块以及电子设备有效
| 申请号： | 201410505073.6 | 申请日： | 2014-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN104516040B | 公开（公告）日： | 2018-10-12 |
| 发明（设计）人： | 新东晋;佐野朗 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;G02B26/00;G01J3/46;G01N21/65;G01N21/3504 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及干涉滤波器、光学滤波器装置、光模块以及电子设备。波长可变干涉滤波器(5)具备：固定基板；固定反射膜，设置于固定基板的与可动基板相对的整个面上，由多层膜构成；可动反射膜，与固定反射膜相对；以及第一镜电极，设置在固定反射膜上。 | ||
| 搜索关键词： | 干涉 滤波器 光学 装置 模块 以及 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种干涉滤波器，其特征在于，具备：基板；第一反射膜，设置于所述基板的一个面，且由多个层构成；第二反射膜，与所述第一反射膜相对；电极，设置于所述第一反射膜上；以及第二基板，与所述基板相对，且设置有所述第二反射膜，所述第一反射膜包括与所述第二反射膜相对的区域，且所述第一反射膜设置于从该区域至所述基板的外周缘的区域，所述第二反射膜由多个层构成，并包括所述第二基板的与所述第一反射膜相对的区域，所述第二反射膜设置在从该区域至所述第二基板的外周缘的区域，在所述第二反射膜上设置有第二电极。
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