[发明专利]高单体含量的分子印迹整体柱与制备方法

摘要

本发明涉及一种高单体含量的分子印迹整体柱与制备方法。原料组成：萘普生或酮洛芬1.96-3.82%，甲基丙烯酸甲酯2-5.22%，4-乙烯基吡啶4.37-4.48%，偶氮二异丁腈0.32%，二甲基丙烯酸乙二醇酯67.8%，1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐14.89-19.18%，二甲基亚砜2.56-6.54%。通过致孔剂配方设计，使功能单体及交联剂等单体含量高达80%，而致孔剂含量不超过20%。使用离子液体1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐为主体致孔剂，合成时间短（小于1.5小时）、具有明确印迹效果、高柱效（N=11680platesm^-1）的整体柱。具有亚微米至微米尺寸的平均直径，渗透性良好。本发明对环境更为友好，能减少2-3倍致孔剂消耗量，且制备方法简便，通透性好、反压小、机械强度好、具有良好的分子识别效果。

主权项

一种高单体含量的分子印迹整体柱，其特征在于：它的原料的质量组成：模板分子    1.8 ‑ 4 %甲基丙烯酸甲酯 0.1 ‑ 5.22 %4‑乙烯基吡啶 4‑4.5 %偶氮二异丁腈 0.30‑0.32 %二甲基丙烯酸乙二醇酯65‑68%1‑丁基‑3‑甲基咪唑四氟硼酸盐15 ‑20 %二甲基亚砜    2 ‑7 %所述的模板分子为萘普生或酮洛芬。