[发明专利]大视场投影光刻物镜有效
| 申请号： | 201410510035.X | 申请日： | 2014-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN105527701B | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 卢丽荣 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/06 | 分类号： | G02B13/06;G02B13/00;G02B1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种大视场投影光刻物镜，采用三种高透材料制成的四组透镜组能够达到2倍放大倍率且视场大的物镜，并且像质量更佳，尤其是波差和像散畸变，此外，采用易加工、成本更低的高透材料，在大幅度提高透过率的同时降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 大视场投影 高透材料 光刻物镜 放大倍率 透过率 透镜组 易加工 畸变 视场 物镜 像散 | ||
【主权项】：
1.一种大视场投影光刻物镜，包括：由依次排列的四组透镜组构成，分别为第一透镜组G1、第二透镜组G2、第三透镜组G3及第四透镜组G4，其中，第二透镜组G2用于校正球差和色差，第三透镜组G3用于校正像散和场曲，第四透镜组G4用于校正倍率，四组透镜组的透镜采用I线折射率大于1.56且阿贝数小于45的第一种材料、I线折射率小于1.55且阿贝数大于62的第二种材料或I线折射率小于1.55且阿贝数小于70的第三种材料，且每组透镜组中至少一片透镜采用所述第一种材料或第二种材料；所述第一透镜组G1由四片透镜构成，光焦度分别为正、负、正和正。
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