[发明专利]处理液供给装置和处理液供给方法

摘要

本发明提供在自喷出嘴(7)喷出作为处理液的抗蚀液(L)时能够抑制生产率的降低并能够使用一个过滤器(52)来谋求该抗蚀液L的清洁化的处理液供给装置和处理液供给方法。在供抗蚀液(L)流通的供给管路(51)上设置过滤器(52)和泵(70)或泵(111、112)。并且，使通过过滤器(52)后的抗蚀液(L)的一部分自喷出嘴(7)喷出并使余下的抗蚀液(L)返回到过滤器(52)的初级侧，在进行后续的喷出动作时，使该余下的抗蚀液(L)再次通过过滤器(52)。在这样的动作序列中，返回到过滤器(52)的初级侧的抗蚀液(L)的返回量设定为与自喷出嘴(7)喷出的抗蚀液(L)的供给量相同或多于该供给量。

主权项

1.一种处理液供给装置，其特征在于，该处理液供给装置包括：处理液供给源，其用于供给用于处理被处理体的处理液；喷出部，其经由供给路径与上述处理液供给源相连接，用于向被处理体喷出上述处理液；过滤器装置，其设置在上述供给路径上，用于去除处理液中的异物；泵，其设置在上述供给路径上；以及控制部，其输出控制信号而执行如下步骤：利用上述泵的吸入来将自上述过滤器装置的初级侧经由该过滤器装置而通到次级侧后的处理液的一部分自上述喷出部喷出的步骤；使通到上述次级侧后的处理液中的、除了上述处理液的一部分之外的余下的处理液返回到上述过滤器装置的初级侧的步骤；以及利用上述泵使返回到上述过滤器装置的初级侧的处理液连同自上述处理液供给源补充的处理液一起自过滤器装置的初级侧经由该过滤器装置而通到次级侧的步骤，将自上述喷出部喷出的处理液的喷出量与返回到上述过滤器装置的处理液的返回量之间的比例设定为1：1～1：20，其中，该处理液供给装置包括返回流路，该返回流路具有设于上述过滤器装置的外侧的流路，上述余下的处理液经由上述返回流路返回到上述过滤器装置的初级侧，上述返回流路由以下流路构成：第1返回流路，其将上述泵的喷出侧与上述过滤器装置的初级侧之间连接起来；上述过滤器装置内的流路；以及第2返回流路，其将上述过滤器装置的次级侧与该过滤器装置的初级侧之间连接起来，上述控制部输出控制信号而使上述余下的处理液经由上述第1返回流路、过滤器装置以及第2返回流路返回到上述过滤器装置的初级侧。