[发明专利]疏水自清洁减反射涂层及其制备方法

摘要

本发明公开了一种疏水自清洁减反射涂层及其制备方法，涂层为纳米SiO2颗粒及其表面的有机疏水基团构成。该方法以烷基烷氧基硅烷（RnSi(OR’)4‑n）为前驱体，采用酸碱两步法水解制备溶胶，添加一定量的丁醇陈化，再加入一定量的硅烷偶联剂超声分散。该涂层可采用常规方法制备涂层，如旋涂、提拉方法涂膜。所得薄膜同时具有疏水自清洁和减反射功能，对水的静态接触角超过130°，滑动胶小于20°，在350~850nm波长范围内的最高透射率为96.7~97.6%。

主权项

一种疏水自清洁减反射涂层的制备方法，其特征在于该涂层中含有减反射功能的SiO2纳米涂层以及SiO2纳米颗粒表面的疏水基团，所述的方法包括：（1）将烷基烷氧基硅烷（RnSi(OR’)4‑n）溶解在醇溶液中；（2）加入酸催化剂水解，水解温度控制在30~80℃，水解时间0.5~4小时；（3）加入碱催化剂水解，水解温度控制在50~80℃，水解时间1~24小时；（4）冷却后，加入丁醇和硅烷偶联剂的混合物，分散均匀后陈化24~72小时；（5）采用旋涂、提拉方法在基底上涂膜；（6）待涂层自然干燥后，进行热处理；其中，烷基烷氧基硅烷、酸、碱的摩尔比是1:0.01~0.05:0.5~1.3；烷基烷氧基硅烷、硅烷偶联剂、正丁醇的摩尔比是1:0.15~0.25:4.0~9.0；涂膜工艺为多次涂膜。