[发明专利]曝光机台的遮光装置有效
| 申请号： | 201410526683.4 | 申请日： | 2014-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN105573059B | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 王宏祺 | 申请（专利权）人： | 力晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种曝光机台的遮光装置，包括主遮光机构及辅助遮光机构。主遮光机构，设置于光行进路径上。辅助遮光机构设置于光行进路线上且位于主遮光机构的一侧。其中，由主遮光机构与辅助遮光机构所形成的曝光开口的形状对应于晶片上的曝光区域的形状。 | ||
| 搜索关键词： | 遮光机构 曝光机台 遮光装置 曝光开口 曝光区域 形状对应 行进路径 行进路线 晶片 | ||
【主权项】：
1.一种曝光机台的遮光装置，包括：主遮光机构，设置于一光行进路径上；以及辅助遮光机构，设置于该光行进路线上且位于该主遮光机构的一侧，其中由该主遮光机构与该辅助遮光机构所形成的一曝光开口的形状对应于一晶片上的一曝光区域的形状，其中该曝光区域包括非完整矩形曝光区域。
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