[发明专利]一种去除单壁碳纳米管中碳杂质的方法有效
申请号: | 201410528149.7 | 申请日: | 2014-10-09 |
公开(公告)号: | CN104310375A | 公开(公告)日: | 2015-01-28 |
发明(设计)人: | 魏飞;张兴华;骞伟中;张强 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | C01B31/02 | 分类号: | C01B31/02;B82Y30/00 |
代理公司: | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人: | 贾玉健 |
地址: | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种去除单壁碳纳米管中碳杂质的方法,包括机械研磨、高温氢气或中温等离子体氢气处理,气流分级筛选以及重复上述步骤两至三次;该方法可将单壁碳纳米管中的碳杂质即洋葱碳纳米颗粒,多壁碳纳米管或无定形碳的质量分数由50%降低至0.05%以下;同时由于是完全干法处理,能够保持单壁碳纳米管的膨松结构,为超级电容器储能或透明导电显示等应用提供基础;本方法具有设备少、操作简单、易重复,过程易放大,成本低的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 去除 单壁碳 纳米 管中碳 杂质 方法 | ||
【主权项】:
一种去除单壁碳纳米管中碳杂质的方法,其特征在于:包括如下步骤:步骤1:将含碳杂质的单壁碳纳米管产品用机械研磨的方法研磨1‑24h;步骤2:将机械研磨后的单壁碳纳米管产品置于反应器中,通过含氢气的气体,在高温或中温等离子体的环境中进行处理;步骤3:将处理后的单壁碳纳米管产品再利用气流分级筛选的方法处理,然后降至室温;步骤4:重复上述步骤1‑3一至三次;步骤2所述的含氢气的气体指氢气与氦气或氩气的混合气体,其中氢气的体积分数为50‑100%;高温处理时的温度为700‑850℃,绝对压力为0.1‑0.3Mpa,处理时间为1‑72h,氢气的重量空速为0.1‑10g/g碳杂质/h;中温等离子体氢气处理时的温度为300‑550℃,绝对压力为0.1‑0.3Mpa,处理时间为1‑72h,氢气的重量空速为0.1‑10g/g碳杂质/h;步骤3所述的利用气流分级筛选的方法处理,具体为:使反应器中通入氢气、氦气或氩气中的一种或多种气体,控制气速为0.01‑0.1m/s,处理时间为0.1‑0.5h,将碳杂质与单壁碳纳米管分离。
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