[发明专利]一种薄膜衰减片的制作方法在审
| 申请号： | 201410529013.8 | 申请日： | 2014-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN104269597A | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | 马子腾;王进;许延峰;朱云东 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十一研究所 |
| 主分类号： | H01P1/22 | 分类号： | H01P1/22 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266555 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种薄膜衰减片的制作方法，包括以下步骤：采用真空溅射的方法实现介质基材表面金属化；采用光刻工艺形成衰减片图形；电镀高纯软金，加厚导体电路；通过加热的办法对整片衰减片电路进行热氧化调阻；使用光刻胶在衰减片的抗击打部位定义出电镀图形区域；在定义图形区域电镀金钴合金；使用砂轮划切的方法分割成独立的衰减片图形。本发明薄膜衰减片的制作方法，将电镀软金与电镀硬金相结合，大幅度提高了其抗击打能力；这种方法可靠性好，加工效率高，利于批量生产，值得在生产中推广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 衰减 制作方法 | ||
【主权项】：
一种薄膜衰减片的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤(101)，采用真空溅射的方法实现介质基材表面金属化；步骤(102)，采用光刻工艺形成衰减片图形；步骤(103)，电镀高纯软金，加厚导体电路；步骤(104)，通过加热的办法对整片衰减片电路进行热氧化调阻；步骤(105)，使用光刻胶在衰减片的抗击打部位定义出电镀图形区域；步骤(106)，在定义图形区域电镀金钴合金；步骤(107)，使用砂轮划切的方法分割成独立的衰减片图形。
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