[发明专利]一种能提高电隔离能力的脊波导芯片结构及制作方法有效
申请号: | 201410531269.2 | 申请日: | 2014-10-10 |
公开(公告)号: | CN104242056A | 公开(公告)日: | 2014-12-24 |
发明(设计)人: | 唐祖荣;周勇;陈文胜;段利华;吴天伟;田坤 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十四研究所 |
主分类号: | H01S5/32 | 分类号: | H01S5/32 |
代理公司: | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人: | 刘佳 |
地址: | 400060 *** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | 本发明提供一种能提高电隔离能力的脊波导芯片结构,包括在N型衬底上顺序层叠的N型缓冲层、N型下限制层、下波导层、有源层、上波导层、P型上限制层、P型高掺杂层和N型隔离层,所述N型隔离层和P型高掺杂层上设有电流注入窗口,所述电流注入窗口设有在所述P型高掺杂层和P型上限制层中行进的脊波导,所述脊波导包括脊形台面和沟槽,所述有源层的发光窗口位于所述电流注入窗口下,除所述电流注入窗口下的有源层发光窗口对应的脊形台面外,剩余面均设有SiO2隔离膜。本发明还提供一种前述脊波导芯片结构的制作方法。本发明能有效改善芯片的电流限制能力,增强器件的电隔离能力,同时减少SiO2隔离膜的厚度,降低后工序的工艺难度。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 隔离 能力 波导 芯片 结构 制作方法 | ||
【主权项】:
一种能提高电隔离能力的脊波导芯片结构,其特征在于,包括在N型衬底上顺序层叠的N型缓冲层、N型下限制层、下波导层、有源层、上波导层、P型上限制层、P型高掺杂层和N型隔离层,所述N型隔离层和P型高掺杂层上设有电流注入窗口,所述电流注入窗口设有在所述P型高掺杂层和P型上限制层中行进的脊波导,所述脊波导包括脊形台面和沟槽,所述有源层的发光窗口位于所述电流注入窗口下,除所述电流注入窗口下的有源层发光窗口对应的脊形台面外,剩余面均设有SiO2隔离膜。
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