[发明专利]彩膜基板的制作方法、彩膜基板及液晶显示面板有效
| 申请号： | 201410534282.3 | 申请日： | 2014-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN104280930B | 公开（公告）日： | 2017-07-18 |
| 发明（设计）人： | 黄世帅;罗时勋 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1343;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种彩膜基板的制作方法，其包括在基板上依次沉积金属层以及黑色矩阵层；使用半色调掩膜对黑色矩阵层进行图形化处理；去除彩膜区域的金属层以及通孔区域的黑色矩阵层；在基板的彩膜区域涂布RGB彩膜层；以及在基板上沉积透明金属层，以形成透明电极。本发明还提供一种彩膜基板及液晶显示面板。本发明的彩膜基板的制作方法、彩膜基板及液晶显示面板提高了液晶显示面板的显示品质。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 制作方法 液晶显示 面板 | ||
【主权项】：
一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：在基板上依次沉积金属层以及黑色矩阵层，其中所述基板包括彩膜区域、黑色矩阵区域以及通孔区域；使用半色调掩膜对所述黑色矩阵层进行图形化处理，以将所述彩膜区域的所述黑色矩阵层全部去除、将所述通孔区域的所述黑色矩阵层部分去除以及将所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层全部保留；去除所述彩膜区域的所述金属层以及所述通孔区域的所述黑色矩阵层，以形成黑色矩阵以及通孔；在所述基板的所述彩膜区域涂布RGB彩膜层，以形成RGB彩膜；以及在所述基板上沉积透明金属层，以形成透明电极；其中，所述基板的所述通孔区域设置在相同颜色的所述RGB彩膜之间或设置在不同颜色的所述RGB彩膜之间。
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