[发明专利]掩膜板、柱状隔垫物的制作方法和基板的制作方法有效
申请号: | 201410539439.1 | 申请日: | 2014-10-13 |
公开(公告)号: | CN104267576B | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 卢兵;罗锋 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68;G02F1/1339;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明实施例公开了一种掩膜板、柱状隔垫物的制作方法和基板的制作方法,涉及显示技术领域,可以同时兼顾主、副柱状隔垫物之间的段差和副柱状隔垫物的尺寸。该掩膜板包括第一透光区域、第二透光区域、第三透光区域和第四透光区域;第一、第三透光区域的宽度均为d1,第二、第四透光区域的宽度均为d2,相邻两个第一透光区域之间依次设置有一个第二透光区域、一个第三透光区域和一个第四透光区域;第二透光区域与第一透光区域之间、第四透光区域与第一透光区域之间的遮光区域的宽度均为d3,第三透光区域与第二透光区域之间、第四透光区域与第三透光区域之间的遮光区域的宽度均为d4,其中d4=1/2(d1+d2+4d3)。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 柱状 隔垫物 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板,其特征在于,包括第一透光区域、第二透光区域、第三透光区域和第四透光区域;所述第一透光区域的宽度为d1,第二透光区域的宽度为d2,第三透光区域的宽度为d1,第四透光区域的宽度为d2,相邻两个所述第一透光区域之间依次设置有一个所述第二透光区域、一个所述第三透光区域和一个所述第四透光区域;所述第二透光区域与所述第一透光区域之间的遮光区域的宽度为d3,所述第三透光区域与所述第二透光区域之间的遮光区域的宽度为d4,其中d4=1/2(d1+d2+4d3),所述第四透光区域与所述第三透光区域之间的遮光区域的宽度为d4,所述第四透光区域与所述第一透光区域之间的遮光区域的宽度为d3。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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