[发明专利]一种用于优化光学系统参数的方法和装置有效
| 申请号： | 201410542473.4 | 申请日： | 2014-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN105571483B | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 王鑫;张振生;施耀明;徐益平 | 申请（专利权）人： | 睿励科学仪器（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370 | 代理人： | 罗朋 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种优化光学系统参数的方案，该方案中，对于多个测量模式中每一个测量模式，确定与该测量模式对应的系统噪声；对于待测结构模型的每个结构参数，通过确定该结构参数在该测量模式下的可控测量精度，并根据该结构参数在所述多个测量模式下的多个可控测量精度，确定该结构参数的一个或多个可选测量模式，并将该结构参数分别在所述一个或多个可选测量模式下的一个或多个可控测量精度，作为该结构参数对应的可控测量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 测量模式 结构参数 可控 测量 光学系统参数 可选 方法和装置 结构模型 系统噪声 优化 | ||
【主权项】：
1.一种用于优化光学系统参数的方法，其中，该方法包括以下步骤：S1对于多个测量模式中每一个测量模式，根据该测量模式下各个光学系统参数的标称值以及预设最大误差值，确定所有光学系统参数引入的总的系统噪声，作为与该测量模式对应的系统噪声，其中，所述测量模式规定了用于OCD测量的测量光的光谱类型以及各个光学系统参数的组合；对于待测结构模型的每个结构参数，执行以下步骤：S2对于多个测量模式中每一个测量模式，根据该测量模式所对应的系统噪声，并结合该结构参数的标称值与多个浮动值，同时基于所述待测结构模型的其他结构参数的标称值，确定该结构参数在该测量模式下的可控测量精度；S3根据该结构参数在所述多个测量模式下的多个可控测量精度，确定该结构参数的一个或多个可选测量模式，并将该结构参数分别在所述一个或多个可选测量模式下的一个或多个可控测量精度，作为该结构参数对应的可控测量精度。
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