[发明专利]EUV光源和曝光装置有效
| 申请号： | 201410549348.6 | 申请日： | 2014-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN105511231B | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 伍强;岳力挽 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B05B13/02;H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 应战;骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种EUV光源和曝光装置，其中所述EUV光源，包括：液滴阵列，所述液滴阵列包括沿扫描方向排布的若干喷嘴，若干喷嘴适于依次向下方的辐射位置喷吐液滴；激光源，适于产生激光束，并使激光束沿扫描方向扫描，依次轰击到达辐射位置的液滴，液滴受到激光轰击时形成等离子体，等离子体辐射极紫外光；聚光器，适于旋转扫描并同时收集辐射的极紫外光，并将收集的极紫外光汇聚于中心焦点。本发明的EUV光源输出的极紫外光的功率增加。 | ||
| 搜索关键词： | 极紫外光 辐射位置 曝光装置 扫描方向 液滴阵列 喷嘴 激光束 液滴 等离子体 等离子体辐射 功率增加 激光轰击 喷吐液滴 旋转扫描 中心焦点 激光源 聚光器 排布 轰击 扫描 汇聚 输出 辐射 | ||
【主权项】：
1.一种EUV光源，其特征在于，包括：液滴阵列，所述液滴阵列包括沿扫描方向排布的若干喷嘴，若干喷嘴适于依次向下方的辐射位置喷吐液滴；激光源，适于产生激光束，并使激光束沿扫描方向扫描，依次轰击到达辐射位置的液滴，液滴受到激光轰击时形成等离子体，等离子体辐射极紫外光；聚光器，所述聚光器位于反射镜和辐射位置之间，所述聚光器包括聚光镜和第二驱动装置，聚光镜具有椭球型反射面，所述椭球型反射面收集辐射的极紫外光，并将收集的辐射极紫外光反射汇聚于中心焦点，所述第二驱动装置与聚光镜连接，适于驱动所述聚光镜旋转扫描，在激光束依次轰击到达辐射位置的液滴形成的辐射极紫外光时，聚光镜收集辐射的极紫外光，并将收集的辐射极紫外光反射后汇聚于中心焦点；且所述聚光镜包括分离的第一部分聚光镜和第二部分聚光镜，第一部分聚光镜位于第二部分聚光镜上方，所述第二驱动装置包括第三子驱动装置和第四子驱动装置，第三子驱动装置与第一部分聚光镜连接，适于驱动第一部分聚光镜旋转扫描，第四子驱动装置与第二部分聚光镜连接，适于驱动第二部分聚光镜旋转扫描。
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