[发明专利]光学体及其制造方法、日光遮蔽构件、窗构件及内装构件有效

专利信息
申请号: 201410552992.9 申请日: 2011-04-08
公开(公告)号: CN104297824B 公开(公告)日: 2017-03-22
发明(设计)人: 影山正光;吉田宽则;谷岛胜行;长浜勉;榎本正 申请(专利权)人: 迪睿合电子材料有限公司
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08;B32B3/30;B32B37/02;E06B9/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 李啸,姜甜
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了一种光学体及其制造方法、日光遮蔽构件、窗构件及内装构件。该光学体包括第一光学层;第二光学层,具有光入射的入射面;以及反射层,被夹在第一光学层和第二光学层之间,其中,第一光学层包括在设置了反射层的表面上或该表面中形成的多个凸形或凹形结构,凸形结构的脊部或彼此相邻的凹形结构之间的脊部具有向入射面侧突出的末端部,末端部从理想形状变形,第二光学层透明,并且具有1.1以上1.9以下的折射率,并且光学体在除了镜面反射方向之外的方向上选择性地指向性反射进入入射面的光中的处于特定波长带的一部分光。
搜索关键词: 光学 及其 制造 方法 日光 遮蔽 构件
【主权项】:
一种光学体,包括:第一光学层;第二光学层,具有光入射至其上的入射面;以及反射层,被夹在所述第一光学层和所述第二光学层之间,其中,所述反射层是半透射层,对于透射的光,依据JIS K‑7105测定的0.5mm的光梳的透射清晰度是30以上,所述第一光学层包括在设置了所述反射层的表面上或在该表面中形成的多个凸形或凹形结构,所述多个结构具有基本上周期性的配置节距,所述凸形结构的脊部或彼此相邻的所述凹形结构之间的脊部具有向所述入射面侧突出的末端部,所述末端部具有从理想形状的变形,所述从理想形状的变形被表示成将所述结构的末端部的截面的形状在该截面内描绘的圆的半径,该圆与按照设计形成而想要获得的结构末端的轮廓线内切,并且是穿过实际上获得的所述结构末端的形状中朝光入射侧最突出的点的圆中半径较大的圆,该圆的半径是所述从理想形状的变形的大小,所述末端部中所述从理想形状的变形的大小是所述结构的阵列节距的7%以下,所述第二光学层透明,并且具有1.1以上1.9以下的折射率,并且所述光学体在除了(‑θ,φ + 180°)之外的方向上选择性地指向性反射以入射角(θ,φ)入射至所述入射面的光中的处于特定波长带的一部分光,其中,θ为入射面的垂线与入射至入射面的光或从入射面反射的光所形成的角,并且φ为入射面内的特定直线与将入射光或反射光投影至入射面所获得的分量之间所形成的角。
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