[发明专利]一种毫米波近场机械调焦双反射面天线有效

专利信息
申请号: 201410561585.4 申请日: 2014-10-21
公开(公告)号: CN105591206A 公开(公告)日: 2016-05-18
发明(设计)人: 薛长江;余川;孟凡宝;屈劲;徐刚;施美友;陈世韬 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
主分类号: H01Q15/14 分类号: H01Q15/14
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 卿诚;吴彦峰
地址: 621000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种毫米波近场机械调焦双反射面天线,包括主反射面、副反射面、和馈源,所述馈源发射出的波束经副反射面反射到主反射面后再射出;副反射面能在运动机构上前后、上下、左右移动或者旋转移动或者旋转;主反射面的曲面形状为旋转抛物面,主反射面的中心点位于副面出射中心轴线和辐射波束轴线交点处。本发明结构简单、加工成熟,提高了天线近场区轴线功率密度及作用距离范围,同时可简单快速在较大区域调节其最大功率密度位置,即在同样输入功率情况下,轴线最大功率密度得到大幅提高且位置可在较大区域调节;使达到有效功率阈值的范围增大。
搜索关键词: 一种 毫米波 近场 机械 调焦 反射 天线
【主权项】:
一种毫米波近场机械调焦双反射面天线,包括主反射面、副反射面和馈源,所述馈源发射出的波束经副反射面反射到主反射面后再射出;所述主反射面的曲面形状为旋转抛物面,主反射面的中心点位于副面出射中心轴线和辐射波束轴线交点处;所述副反射面曲面为旋转双曲面,且副反射面为圆对称结构,圆心位于所述馈源出射轴线上;所述馈源设置在副反射面的实焦点附近;所述主反射面的焦点与天线副面双曲面的另一实焦点相近;所述馈源轴线与主反射面辐射波束轴线成任意度夹角;其特征在于所述主反射面、副反射面和馈源设置同一个支架上,馈源和主反射面固定在支架上保持位置不变;所述支架上设置有运动机构,副反射面设置在运动机构上,副反射面能在运动机构上前后、上下、左右移动或者旋转移动或者旋转。
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