[发明专利]一种蓝宝石晶片抛光液有效
| 申请号： | 201410562946.7 | 申请日： | 2014-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN104356950A | 公开（公告）日： | 2015-02-18 |
| 发明（设计）人： | 李金平 | 申请（专利权）人： | 李金平 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 王国标 |
| 地址： | 528000 广东省佛山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蓝宝石晶片抛光液，由以下组分组成：固含量为30~40wt%硅溶胶：20~30wt%；直径为80~200nm氧化铝：10~20wt%；有机碱：0.1~4%wt%；分散剂：0.1~3wt%；壬基酚聚氧乙烯基醚：0.3~1wt%；余量为去离子水。本发明通过硅溶胶和氧化铝的复合，既保证了抛光速度又避免了加工划痕，进一步通过加入壬基酚聚氧乙烯基醚、分散剂等使抛光液形成稳定的胶体分散体系，促进被抛光晶片和抛光垫的充分润湿使抛光液在抛光垫和被抛光晶片之间稳定均匀的分布，这样可以平衡晶片表面各处的反应速率，从而保证并提高的抛光质量。本发明可用于蓝宝石晶片的加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蓝宝石 晶片 抛光 | ||
【主权项】：
一种蓝宝石晶片抛光液，其特征在于，所述抛光液由以下组分组成：固含量为30~40wt%硅溶胶 20~30wt%；直径为80~200nm氧化铝 10~20wt%；有机碱 0.1~4wt%；分散剂 0.1~3wt%；壬基酚聚氧乙烯基醚 0.3~1wt%；余量为去离子水。
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