[发明专利]一种大孔径空间外差干涉光谱成像仪装调方法有效
申请号: | 201410563371.0 | 申请日: | 2014-10-21 |
公开(公告)号: | CN104280121A | 公开(公告)日: | 2015-01-14 |
发明(设计)人: | 杜述松;相里斌;才啟胜;张金刚 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电研究院 |
主分类号: | G01J3/45 | 分类号: | G01J3/45;G01J3/02 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;郑哲 |
地址: | 100080 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种大孔径空间外差干涉光谱成像仪装调方法,该方法只需用到平面反射镜、转台、高度标记装置、小孔光阑以及准直光源即可,不仅解决双光栅刻线方向的严格平行还解决双光栅表面之间的严格平行问题,确保了通过大孔径空间外差干涉光谱成像技术获得干涉图的正确性。 | ||
搜索关键词: | 一种 孔径 空间 外差 干涉 光谱 成像 仪装调 方法 | ||
【主权项】:
一种大孔径空间外差干涉光谱成像仪装调方法,其特征在于,该方法包括:根据设置在准直光源与置于转台上一反射镜之间的一小孔光阑,来调节转台使得所述反射镜的镜面与所述准直光源的出射光垂直,并记录对应的转台刻度W;再采用步进次的方式调节所述反射镜所处转台,并在一高度接收面上获得多个处于同一高度h的光斑;在所述小孔光阑与所述反射镜之间设置一置于转台上的第一光栅,基于所述小孔光阑来调节所述第一光栅下所处的转台,使所述第一光栅的光栅面与所述准直光源的出射光垂直;并基于所述高度h的光斑来调节所述第一光栅下所处的转台,使所述第一光栅的刻线方向与其所处转台垂直;在所述准直光源上方设置一置于转台上的第二光栅,使所述第二光栅能接收到所述第一光栅的衍射光,并将所述反射镜所处转台的刻度调节至W;基于调节后的反射镜及所述第一光栅,来调节所述第二光栅,使得所述第二光栅的光栅面与所述第一光栅的光栅面平行,且所述第二光栅的刻线方向与其所处转台垂直。
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