[发明专利]热处理设备

摘要

本发明提供一种热处理设备。此热处理设备包含：处理腔室，其中具有衬底处理空间；光源，安置在处理腔室外部以输出光，光源将光照射到装载到处理腔室中的衬底上；以及停滞凹槽，在处理腔室内安置在衬底上方并且具有内部空间，从光源发出的光和惰性气体穿过内部空间并且被引导到衬底，停滞凹槽从下侧向上界定，以使得惰性气体收纳在停滞凹槽中并且停滞在停滞凹槽中。根据示例性实施例，惰性气体收纳在其中的停滞凹槽可以界定在气体喷射模块的下部中。因此，由于停滞的惰性气体填充到气体喷射模块的下部与衬底的顶部表面之间的空间中，所以即使氧气和杂质存在于处理腔室中的气体喷射模块外部，也可防止将氧气引入到衬底与气体喷射模块之间的空间中。

主权项

1.一种热处理设备，其特征在于包括：处理腔室，其中具有衬底处理空间；光源，其安置在所述处理腔室外部以输出光，所述光源将所述光照射到装载到所述处理腔室中的衬底上；以及板，其安置在所述处理腔室中的所述衬底上并且具有停滞凹槽，其中所述停滞凹槽安置在所述衬底上方并且具有内部空间，从所述光源发出的所述光和惰性气体穿过所述内部空间并且被引导到所述衬底，所述停滞凹槽是从下侧向上界定的，以使得所述惰性气体收纳在所述停滞凹槽中并且停滞在所述停滞凹槽中，且其中所述停滞凹槽是具有从所述板的底部表面向上凹陷的凹形形状的凹槽。