[发明专利]一种玻璃瓶内壁阻隔性薄膜的制备方法在审
申请号: | 201410565038.3 | 申请日: | 2014-10-22 |
公开(公告)号: | CN104386918A | 公开(公告)日: | 2015-03-04 |
发明(设计)人: | 吕斌;吕建国;张金云;叶欢;陈国安;李文杰;朱恒伟 | 申请(专利权)人: | 宁波正力药品包装有限公司 |
主分类号: | C03C17/00 | 分类号: | C03C17/00;C23C16/44 |
代理公司: | 杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙) 33231 | 代理人: | 张宇娟 |
地址: | 315033 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种玻璃瓶内壁阻隔性薄膜的制备方法,主要包括以下步骤:玻璃瓶的化学清洗干燥、使用密封静气法进行氧等离子体轰击工艺和薄膜生长工艺;其中密封静气法为:将CVD工艺过程中的反应气体源进入、反应过程、反应废气抽出三个过程分步相继进行,在前一个步骤完成后再进入下一个步骤。工艺过程中通过将玻璃瓶扣在专用PECVD样品托架上形成反应室,同时利用密封静气法的作用,达到在玻璃瓶内壁均匀镀膜的效果。本发明旨在解决于不规则玻璃瓶内壁沉积薄膜的难题,提供了一种低成本、操作简便、清洁高效的制备高质量薄膜的方法。本发明制备出的SiO2阻隔膜膜层致密均匀,耐水性得到很大提高,在药品包装领域具有良好的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 玻璃瓶 内壁 阻隔 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种玻璃瓶内壁阻隔性薄膜的制备方法,其特征在于包括以下步骤:玻璃瓶的化学清洗干燥、使用密封静气法的氧等离子体轰击工艺和使用密封静气法的薄膜生长工艺;且制备过程中所使用的PECVD装置包括专用PECVD样品托架,玻璃瓶扣在所述专用PECVD样品托架上形成密封反应室。
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