[发明专利]片式电子组件及其制造方法有效
申请号: | 201410566473.8 | 申请日: | 2014-10-22 |
公开(公告)号: | CN104575937B | 公开(公告)日: | 2018-05-18 |
发明(设计)人: | 金成贤;朴明顺;金圣嬉;金珆暎;车慧娫 | 申请(专利权)人: | 三星电机株式会社 |
主分类号: | H01F17/00 | 分类号: | H01F17/00;H01F27/32;H01F41/12 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;安宇宏 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了一种片式电子组件及其制造方法,该片式电子组件包括:磁性主体,具有嵌入其中的线圈导电图案部;氧化物绝缘膜,形成在线圈导电图案部的表面上。即使在该绝缘膜形成为比根据现有技术的绝缘膜薄的情况下,也可防止线圈导电图案部被暴露,由此磁性材料和线圈导电图案部可彼此不接触。因此,可防止在高频下的波形缺陷。 | ||
搜索关键词: | 电子 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种片式电子组件,包括:磁性主体,其中嵌入有线圈导电图案部;以及氧化物绝缘膜,设置在线圈导电图案部的表面上,其中,所述片式电子组件还包括涂覆氧化物绝缘膜的聚合物绝缘膜,聚合物绝缘膜的表面的形状与线圈导电图案部的表面的形状对应,线圈导电图案部的相邻图案之间的区域填充有磁性材料,形成在线圈导电图案部的上表面上的氧化物绝缘膜的平均厚度大于形成在线圈导电图案部的侧表面上的氧化物绝缘膜的平均厚度。
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