[发明专利]版图数据的处理方法及光掩膜数据有效
| 申请号： | 201410568446.4 | 申请日： | 2014-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN105589979B | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | 游桂美;顾莉 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 吴贵明;张永明 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种版图数据的处理方法及光掩膜数据。该处理方法包括：对芯片数据和密封环数据进行逻辑运算以形成组合数据，组合数据中的图形由芯片数据和密封环数据中的图形加到一起构成；将框架数据并入到组合数据中并转换形成光掩膜数据。该处理方法通过对芯片数据和密封环数据进行逻辑运算以形成组合数据，且组合数据中的图形由芯片数据和密封环数据中的图形加到一起构成，从而避免了光掩膜数据所形成的图形中密封环的四个顶端与芯片产生交叠。 | ||
| 搜索关键词： | 版图 数据 处理 方法 光掩膜 | ||
【主权项】：
1.一种版图数据的处理方法，其特征在于，所述处理方法包括：对芯片数据和密封环数据进行逻辑运算以形成组合数据，所述组合数据中的图形由所述芯片数据和所述密封环数据中的图形加到一起构成；将框架数据并入到所述组合数据中并转换形成光掩膜数据。
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