[发明专利]一种利用多晶硅块和鳞片石墨制备高纯碳化硅粉的方法无效

专利信息
申请号: 201410570173.7 申请日: 2014-10-23
公开(公告)号: CN104401995A 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 徐所成;徐永宽;孟大磊;张政;张皓 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十六研究所
主分类号: C01B31/36 分类号: C01B31/36
代理公司: 天津中环专利商标代理有限公司 12105 代理人: 王凤英
地址: 300220*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种利用多晶硅块和鳞片石墨制备高纯碳化硅粉的方法。其步骤(1)按质量比将多晶硅块置于石墨坩埚底层,将鳞片石墨均匀铺散在多晶硅块上面;(2)将坩埚放入感应炉中,抽真空4-10小时;(3)温度升至1300-1600℃,氩气流量0.1-5L/min,氢气流量0-1L/min,压力3-20mbar,保温2-4小时;(4)温度升至1800-2300℃,升温速率为10-30℃/min,保温2-10小时;(5)取出碳化硅粉在石墨研钵中粉碎,即得到高纯碳化硅粉。该方法制备的高纯SiC粉为淡黄色或黄黑色粉末,碳化硅的含量不低于99.9%。该方法具有工艺简单、生产成本低、生产周期短和SiC粉纯度高特点。
搜索关键词: 一种 利用 多晶 鳞片 石墨 制备 高纯 碳化硅 方法
【主权项】:
 一种利用多晶硅块和鳞片石墨制备高纯碳化硅粉的方法,其特征在于:其步骤如下:步骤一.将鳞片石墨和多晶硅块按质量比为1:2‑1:2.5装入石墨坩埚中, 将多晶硅块置于石墨坩埚底层,然后将鳞片石墨均匀铺散在多晶硅块上面;步骤二.将装有鳞片石墨和多晶硅块的石墨坩埚放入感应炉中,抽真空4‑10小时,真空度达到10‑5mbar;步骤三.将温度迅速升至1300‑1600℃,充入氩气或氩气和氢气的混合气体,氩气流量为0.1‑5L/min,氢气流量为0‑1L/min,压力为3‑20mbar,并保温2‑4小时;步骤四.将温度迅速升至1800‑2300℃,升温速率为10‑30℃/min,保温2‑10小时;步骤五.取出合成好的碳化硅粉在石墨研钵中粉碎,即得到高纯碳化硅粉。
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