[发明专利]一种晶体硅太阳能电池前栅线电极的制备方法有效
申请号: | 201410570419.0 | 申请日: | 2014-10-23 |
公开(公告)号: | CN104362216B | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 李俊杰;刘铸;申皓;罗晓斌;李璇;何桃玲 | 申请(专利权)人: | 云南大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 昆明今威专利商标代理有限公司53115 | 代理人: | 赛晓刚 |
地址: | 650091*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明涉及一种晶体硅太阳能电池前栅线电极的制备方法。具体步骤在具有PN结及铝背电极的硅片上利用丝网印刷技术,印刷电极种子层;在硅片的正面沉积一层氮化硅减反射膜;利用激光刻蚀技术去除种子层表面的氮化硅,使种子层暴露出来,实现对硅片开槽及退火的目的;利用光诱导电镀、电镀技术电镀前栅线电极,形成完整的晶体硅太阳能电池片。本发明既结合了传统的丝网印刷工艺又融合了当前的光诱导电镀技术。在制备种子层的过程中有效地利用了相关步骤中的温度条件达到对种子层的退火工艺,节约了成本;制备的前栅线电极与硅体之间形成良好的欧姆接触;前栅线电极均匀致密,导电性好,器件的串联电阻小,电极附着力增加,生产成本低,产出效率高。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶体 太阳能电池 前栅线 电极 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种晶体硅太阳能电池前栅线电极的制备方法,其特征是具备如下步骤:(1)在具有铝背电极、PN结晶体硅片的正面丝网印刷前栅线电极种子层;(2)沉积氮化硅减反射层;(3)激光刻槽的方法除去前栅线电极表面的氮化硅;(4)电镀前栅线电极;(5)电镀前栅线电极保护层金属;所用的晶体硅片是经过制绒、磷扩散、去磷硅玻璃、印刷铝背电极工艺流程的半成品晶体硅太阳能电池片;所述激光刻槽的方法是利用激光除去种子层表面的氮化硅,同时对种子层进行二次退火,形成欧姆接触层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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