[发明专利]气体导流环、气体供应装置及等离子体处理装置在审
| 申请号： | 201410571555.1 | 申请日： | 2014-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN105529237A | 公开（公告）日： | 2016-04-27 |
| 发明（设计）人： | 谢小兵;王俊;刘身健 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;林彦之 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种气体导流环，用于将多路反应气体输入至等离子体反应腔体内。气体导流环包括环形主体，嵌设于环形主体中的、与多路反应气体对应的多条环状气体通道，以及与多条环状气体通道对应相连且彼此互不干涉的多组喷气孔。每组喷气孔的各喷气孔的进气口与对应的环状气体通道的输出端相连，出气口形成于环形主体的内侧壁上。其中，将至少两组的喷气孔的气体喷出方向设置为不同。本发明能够反应气体的气场分布，从而改善等离子体处理的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 导流 供应 装置 等离子体 处理 | ||
【主权项】：
一种气体导流环，设置于等离子体处理装置的反应腔体的内部上方，所述气体导流环与气体供应源之间设置一气体分流器，所述气体导流环用于将经所述气体分流器分流及进行流量比例调节的多路反应气体输入至所述反应腔体内，其特征在于，所述气体导流环包括：环形主体；嵌设于所述环形主体中、与所述多路反应气体对应的多条环状气体通道，所述多条环状气体通道的输入端与所述气体分流器相连；以及与所述多条环状气体通道对应相连且彼此互不干涉的多组喷气孔，每一组喷气孔的各喷气孔的进气口与对应的环状气体通道的输出端相连，出气口形成于所述环形主体的内侧壁上，其中，将至少两组的所述喷气孔的气体喷出方向设置为不同。
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