[发明专利]蚀刻液组合物及蚀刻方法在审
| 申请号： | 201410576483.X | 申请日： | 2014-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN104611701A | 公开（公告）日： | 2015-05-13 |
| 发明（设计）人： | 罗致远;黄若涵;吴光耀;黄宜琤;卢厚德 | 申请（专利权）人： | 达兴材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 秦剑 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种蚀刻液组合物，用于蚀刻含铜金属层。蚀刻液组合物包含过氧化氢、质子源、有机碱化合物与氨基酸类化合物或其盐类，其中，质子源排除含氟酸，有机碱化合物是具有至少一个氮原子与至少一个碳原子的链状化合物，且有机碱化合物的pH大于8，氨基酸类化合物为单胺羧酸，单胺羧酸是只含一个氮原子及具有至少一个-COOH的化合物。藉此，蚀刻液组合物在低铜浓度到高铜浓度皆能维持优良的蚀刻表现，而具有较长的蚀刻寿命，并可符合环境诉求。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种蚀刻液组合物，用于蚀刻含铜金属层，该蚀刻液组合物包含：过氧化氢；质子源，该质子源排除含氟酸；有机碱化合物，该有机碱化合物为具有至少一个氮原子与至少一个碳原子的链状化合物，且该有机碱化合物的pH大于8；以及氨基酸类化合物或其盐类，该氨基酸类化合物为单胺羧酸，该单胺羧酸为只含一个氮原子及具有至少一个‑COOH的化合物。
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