[发明专利]离子溅射镀膜机有效
| 申请号： | 201410577811.8 | 申请日： | 2014-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN104294232A | 公开（公告）日： | 2015-01-21 |
| 发明（设计）人： | 张殷;邓琪;张小飞;王静辉;吕子啸 | 申请（专利权）人： | 杰莱特（苏州）精密仪器有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46 |
| 代理公司： | 山西五维专利事务所(有限公司) 14105 | 代理人： | 雷立康 |
| 地址： | 215600 江苏省苏州市张家*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种离子溅射镀膜机，它属于一种离子溅射真空镀膜设备。本发明主要是解决现有的离子溅射镀膜机存在的有效镀膜面积小、膜厚均匀性不容易控制和镀膜表面质量差的技术问题。本发明的技术方案是：离子溅射镀膜机，它包括真空室、大阀、离子源、多光束光学膜厚仪的观察窗、高真空泵、加热器和离子中和器，其中：它还包括移动镀膜靶和旋转基板支架，移动镀膜靶设在真空室内的底部且位于旋转基板支架中的镀膜夹具的下方，移动镀膜靶能在真空室内作直线运动，旋转基板支架设在真空室内的上方且能上下移动，多光束光学膜厚仪的观察窗设在真空室的外壁上并位于旋转基板支架的旋转半径上。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 溅射 镀膜 | ||
【主权项】：
一种离子溅射镀膜机，它包括真空室、大阀、离子源、多光束光学膜厚仪的观察窗、高真空泵、加热器和离子中和器，其特征在于：它还包括移动镀膜靶和旋转基板支架，移动镀膜靶设在真空室内的底部且位于旋转基板支架中的镀膜夹具的下方，移动镀膜靶能在真空室内作直线运动，旋转基板支架设在真空室内的上方且能上下移动，多光束光学膜厚仪的观察窗设在真空室的外壁上并位于旋转基板支架的旋转半径上。
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