[发明专利]硅铈抛光液及其制备方法

摘要

本发明涉及一种硅铈抛光液，其含有微米级二氧化铈粉体，纳米级二氧化铈粉体，胶体二氧化硅，琥珀酸酯或盐，阴离子分散剂，和余量的水；其中所述微米级二氧化铈粉体的粒径为0.5~2.0μm，并且粒径为1.5μm以下的微米级二氧化铈粉体占60%以上，粒径为1.8μm以上的占5%以下；所述纳米级二氧化铈粉体的粒径为20~100 nm，且粒径为50nm以下的纳米级二氧化铈粉体占30~35%，粒径为80nm以上的占10~15%。本发明的硅铈抛光液，可以用于玻璃、蓝宝石、树脂镜片以及半导体基片的高精度研磨和抛光工艺，具有抛光效率高、抛光精度高，切削率高的优点。

主权项

一种硅铈抛光液，采用纳米级二氧化铈粉体、微米级二氧化铈粉体、胶体二氧化硅作为研磨材料，其特征在于：所述抛光液中含有3~6wt%的微米级二氧化铈粉体，1.20~1.75wt%的纳米级二氧化铈粉体，10~25wt%的胶体二氧化硅，0.3~0.8wt%的琥珀酸酯或其盐，0.5~1.5wt%的阴离子分散剂，和余量的水；其中所述微米级二氧化铈粉体的粒径为0.5~2.0μm；所述纳米级二氧化铈粉体的粒径为20~100 nm；其中，所述纳米级二氧化铈粉体经过以下表面处理：（1）将质量为纳米级二氧化铈粉体8~10wt%的改性剂加入去离子水中，在800~1000 rpm的搅拌速度下搅拌10~15min中形成浓度为1.5~2.0wt%的第一体系；（2）将纳米级二氧化铈粉体，以及质量为纳米级二氧化铈粉体8~10wt%的丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵在转速为800~1000 rpm的搅拌速度下分散到甲基丙烯酸缩水甘油酯中得到第二体系；所述甲基丙烯酸缩水甘油酯的质量为纳米级二氧化铈粉体质量的2.5~3.0倍；（3） 将步骤（2）得到的第二体系加入到步骤（1）得到的第一体系中，在1800~2000 rpm的搅拌速度下搅拌20~25 min得到混合液，并转移到反应器中，在N2气氛保护下，持续搅拌加入甲基丙烯酸缩水甘油酯质量0.5~1.0wt%的过氧化二月桂酰，然后在80~85℃的条件下反应2个小时，然后经过过滤、洗涤和干燥即可；所述改性剂为具有以下通式结构的化合物：并且，R为含有10~15个碳的烷基；R'为 (CH2)nSO3Na，n为3~5的整数。