[发明专利]一种双色真空镀膜工艺有效

专利信息
申请号: 201410591612.2 申请日: 2014-10-28
公开(公告)号: CN104404448A 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 石春放;段宁波;段小燕 申请(专利权)人: 深圳市鑫景源科技有限公司
主分类号: C23C14/22 分类号: C23C14/22;C23C14/58;B44C1/22
代理公司: 深圳市兴科达知识产权代理有限公司 44260 代理人: 杜启刚
地址: 518000 广东省深圳市光明新区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种双色真空镀膜工艺,包括以下步骤:在基材上用真空镀膜工艺镀制第一PVD膜;在第一PVD膜上涂覆漆膜;在漆膜上雕刻图案,雕刻深度等于或大于漆膜厚度;在雕刻出来的图案上用真空镀膜工艺镀制第二PVD膜;去除漆膜。本发明双色真空镀膜工艺通过雕刻图案,可以得到边缘清晰度高的平面图案或凹陷的立体图案;图案颜色丰富,可采用现有任意的PVD颜色,不局限于Ti、Zr靶材的颜色。
搜索关键词: 一种 真空镀膜 工艺
【主权项】:
一种双色真空镀膜工艺,其特征在于,包括以下步骤:101)在基材上用真空镀膜工艺镀制第一PVD膜;102)在第一PVD膜上涂覆漆膜;103)在漆膜上雕刻图案,雕刻深度等于或大于漆膜厚度;104)在雕刻出来的图案上用真空镀膜工艺镀制第二PVD膜;105)去除漆膜。
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