[发明专利]透明导电性薄膜的制造方法在审
| 申请号： | 201410594622.1 | 申请日： | 2010-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN104360765A | 公开（公告）日： | 2015-02-18 |
| 发明（设计）人： | 中岛一裕;菅原英男;梨木智刚 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及透明导电性薄膜的制造方法，其为在透明基材上依次形成有第1透明电介质层及透明导电层的透明导电性薄膜的制造方法，其具备以下工序：在透明基材上从该透明基材侧开始依次形成第1透明电介质层及透明导电层的工序；利用蚀刻液蚀刻所述透明导电层而进行图案化的工序；和对图案化了的所述透明导电层进行热处理，使该透明导电层结晶化的工序，所述第1透明电介质层由无机物形成，所述透明导电层通过图案化形成有图案部和图案开口部，在将对所述图案部照射白色光时的反射光的色相a*值及色相b*值分别设为a*P及b*P、将对所述图案开口部的正下方照射白色光时的反射光的色相a*值及色相b*值分别设为a*O及b*O时，满足0≤|a*P-a*O|≤4.00的关系，且满足0≤|b*P-b*O|≤5.00的关系。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电性 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种透明导电性薄膜的制造方法，其特征在于，其为在透明基材上依次形成有第1透明电介质层及透明导电层的透明导电性薄膜的制造方法，所述制造方法具备以下工序：在透明基材上从该透明基材侧开始依次形成第1透明电介质层及透明导电层的工序；利用蚀刻液蚀刻所述透明导电层而进行图案化的工序；和对图案化了的所述透明导电层进行热处理，使该透明导电层结晶化的工序，所述第1透明电介质层由无机物形成，所述透明导电层通过图案化形成有图案部和图案开口部，在将对所述图案部照射白色光时的反射光的色相a*值及色相b*值分别设为a*P及b*P、将对所述图案开口部的正下方照射白色光时的反射光的色相a*值及色相b*值分别设为a*O及b*O时，满足0≤|a*P‑a*O|≤4.00的关系，且满足0≤|b*P‑b*O|≤5.00的关系。
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