[发明专利]测量结构和对测量结构进行测量的测量方法有效
| 申请号： | 201410597136.5 | 申请日： | 2014-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN105628722B | 公开（公告）日： | 2019-01-08 |
| 发明（设计）人： | 岳力挽;蔡博修 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/2251 | 分类号： | G01N23/2251 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 艾春慧;吴贵明 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种测量结构和对测量结构进行测量的测量方法。测量结构包括测量图形和基本定位图形，每个测量图形均有一个基本定位图形与之对应以在测量时根据该基本定位图形对该测量图形进行基本定位，测量图形的数量大于基本定位图形的数量，至少两个测量图形与同一个基本定位图形对应设置以在测量时根据该同一个基本定位图形对该至少两个测量图形进行基本定位。根据本申请的测量结构和对测量结构进行测量的测量方法，可以节约测量所需的总时间，进而提高测量工序的产量。进一步地，可以减少基本定位图形的设置，还可以相应减少测量结构占用的布置区域。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 结构 进行 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种测量结构，所述测量结构包括测量图形和基本定位图形，每个所述测量图形均有一个基本定位图形与之对应以在测量时根据该基本定位图形对该测量图形进行基本定位，其特征在于，所述测量图形的数量大于所述基本定位图形的数量，至少两个所述测量图形与同一个所述基本定位图形对应设置以在测量时根据该同一个基本定位图形对该至少两个测量图形进行基本定位；每个所述基本定位图形对应一个测量区域，其中，与每个所述基本定位图形对应的各测量图形均位于相应的基本定位图形所在的测量区域内。
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