[发明专利]反应气体输送装置及化学气相沉积或外延层生长反应器

摘要

本发明公开了一种用于化学气相沉积或外延层生长反应器的气体输送装置，包括一隔离板和一气体输送板，所述隔离板上方形成第一气体扩散区域，所述隔离板和所述气体输送板之间形成第二气体扩散区域；所述气体输送板上表面交替设置相互平行的纵长形的第一气体扩散槽和纵长形的第二气体扩散槽，第一气体扩散槽和第二气体扩散槽槽底部分别设置第一气体出气通道和第二气体出气通道，分别用于将第一气体扩散区域内的气体和第二气体扩散区域内的气体输送到处理区域内；相邻的第一气体出气通道出口和第二气体出气通道的出口之间的气体输送板下表面为弧形或尖锥形。

主权项

一种反应气体输送装置，用于化学气相沉积或外延层生长反应器，其特征在于，包括：从上往下依次设置的一顶板、一隔离板和一气体输送板，所述顶板与所述隔离板相互间隔而于二者之间形成第一气体扩散区域，所述隔离板和所述气体输送板相互间隔而于二者之间形成第二气体扩散区域；所述气体输送板为一体形成之板体，其包括一上表面，所述上表面上沿某一水平方向上开设有相互平行排列的多个纵长形第一气体扩散槽和多个纵长形第二气体扩散槽，并且每一所述第一气体扩散槽和每一所述第二气体扩散槽相互间隔排列设置，所述每一第一气体扩散槽下方还开设连接有一纵长形第一气体出气通道并且二者相连通，所述每一第二气体扩散槽下方还开设连接有一纵长形第二气体出气通道并且二者相连通；所述每一第一气体扩散槽和与之相邻的每一第二气体扩散槽之间向下延伸设置有一纵长形的气体导流条；所述每一纵长形的气体导流条内部设置有一纵长形的冷却管道，所述每一纵长形的气体导流条的下表面设有具一定弧度的弧形或设为尖锥形；所述每一第一气体扩散槽上还进一步连接设置有至少一根与所述第一气体扩散区域相连通的第一气体输送管。