[发明专利]一种基于边缘结构的背景杂波度量方法在审
| 申请号： | 201410628060.8 | 申请日： | 2014-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN105654452A | 公开（公告）日： | 2016-06-08 |
| 发明（设计）人： | 史泽林;夏仁波;王学娟;向伟;惠斌;王喆鑫 | 申请（专利权）人： | 中国科学院沈阳自动化研究所 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 许宗富 |
| 地址： | 110016 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于边缘结构的背景杂波度量方法，将背景图像分割成大小与目标图像大小相同的单元；建立图像结构特征空间上的目标图像与单元背景杂波图像之间的相似性度量；通过梯度直方图的方法建立目标图像与单元背景杂波图像的边缘结构特征描述，并选用巴氏系数计算图像边缘结构的相似性度量；以目标图像与单元背景杂波图像的边缘结构相似性度量对目标图像和单元背景杂波图像的结构相似性度量进行加权作为单元背景图像的杂波度量，所有单元背景图像杂波度量的平均值，作为整幅背景图像的杂波度量。本发明充分体现人眼视觉在目标识别中主要关注物体结构的特性，提高对成像系统外场性能预测和评估的准确度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 边缘 结构 背景 度量 方法 | ||
【主权项】：
一种基于边缘结构的背景杂波度量方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1：将背景图像分割成大小与目标图像大小相同的单元；步骤2：建立图像结构特征空间上的目标图像与单元背景杂波图像之间的相似性度量；步骤3：通过梯度直方图的方法建立目标图像与单元背景杂波图像的边缘结构特征描述，并选用巴氏系数计算图像边缘结构的相似性度量；步骤4：以目标图像与单元背景杂波图像的边缘结构相似性度量对目标图像和单元背景杂波图像的结构相似性度量进行加权作为单元背景图像的杂波度量，所有单元背景图像杂波度量的平均值，作为整幅背景图像的杂波度量。
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